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產(chǎn)品中心儀器儀表ORC日本
中村供應(yīng)：日本ORC臭氧發(fā)生模塊ARV-M1000A 兼容多種應(yīng)用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術(shù)，適用于多種半導(dǎo)體制造場景。 寬頻譜光刻：具備寬帶曝光功能，可根據(jù)配方自動切換 GHI 線、GH 線、I 線，滿足不同光刻工藝對波長的需求。
現(xiàn)貨庫存：日本ORC臭氧發(fā)生模塊ARV-M500A 兼容多種應(yīng)用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術(shù)，適用于多種半導(dǎo)體制造場景。 寬頻譜光刻：具備寬帶曝光功能，可根據(jù)配方自動切換 GHI 線、GH 線、I 線，滿足不同光刻工藝對波長的需求。
現(xiàn)品庫存：日本ORC臭氧發(fā)生模塊ARV-M1000A 兼容多種應(yīng)用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術(shù)，適用于多種半導(dǎo)體制造場景。 寬頻譜光刻：具備寬帶曝光功能，可根據(jù)配方自動切換 GHI 線、GH 線、I 線，滿足不同光刻工藝對波長的需求。
中村庫存：日本ORC臭氧發(fā)生模塊ARV-M500A 兼容多種應(yīng)用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術(shù)，適用于多種半導(dǎo)體制造場景。 寬頻譜光刻：具備寬帶曝光功能，可根據(jù)配方自動切換 GHI 線、GH 線、I 線，滿足不同光刻工藝對波長的需求。
中村到貨：日本ORC臭氧發(fā)生模塊ARV-M300D/A 兼容多種應(yīng)用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術(shù)，適用于多種半導(dǎo)體制造場景。 寬頻譜光刻：具備寬帶曝光功能，可根據(jù)配方自動切換 GHI 線、GH 線、I 線，滿足不同光刻工藝對波長的需求。
中村現(xiàn)貨：日本ORC臭氧發(fā)生模塊ARV-M100D/A 兼容多種應(yīng)用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術(shù)，適用于多種半導(dǎo)體制造場景。 寬頻譜光刻：具備寬帶曝光功能，可根據(jù)配方自動切換 GHI 線、GH 線、I 線，滿足不同光刻工藝對波長的需求。
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