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現(xiàn)貨庫存：KASHIYAMA日本樫山工業(yè)真空泵MU20N18P 無油干式設計：采用無潤滑油機械結構，可避免介質污染，適用于超潔凈工藝環(huán)境，如半導體晶圓制造等。
現(xiàn)貨庫存：KASHIYAMA日本樫山工業(yè)真空泵MU30N18P 無油干式設計：采用無潤滑油機械結構，可避免介質污染，適用于超潔凈工藝環(huán)境，如半導體晶圓制造等。
中村供貨：KASHIYAMA日本樫山工業(yè)真空泵NeoDry7E 無油干式設計：采用無潤滑油機械結構，可避免介質污染，適用于超潔凈工藝環(huán)境，如半導體晶圓制造等。
中村供貨：KASHIYAMA日本樫山工業(yè)真空泵NeoDry15E 無油干式設計：采用無潤滑油機械結構，可避免介質污染，適用于超潔凈工藝環(huán)境，如半導體晶圓制造等。
中村供貨：KASHIYAMA日本樫山工業(yè)真空泵NeoDry30E 無油干式設計：采用無潤滑油機械結構，可避免介質污染，適用于超潔凈工藝環(huán)境，如半導體晶圓制造等。
中村供貨：KASHIYAMA日本樫山工業(yè)真空泵NeoDry36E 無油干式設計：采用無潤滑油機械結構，可避免介質污染，適用于超潔凈工藝環(huán)境，如半導體晶圓制造等。
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